3月8日，上海新陽半導體材料股份有限公司發(fā)布公告，披露了關(guān)于購買ASML-1400光刻機的最新進展。

據(jù)介紹，上海新陽自立項開發(fā)193nmArF干法光刻膠的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目以來，安排購買了ASML-1400光刻機等核心設備，并于2020年12月14日披露，該光刻機將于2020年底前運抵國內(nèi)。

不過此后，由于上海新陽與光刻機供應商、北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(畢竟)有限公司在溝通協(xié)調(diào)設備運輸與安裝等細節(jié)方面遇到波折，光刻機設備沒能在規(guī)定時間內(nèi)運達。

隨后，雙方就具體合作細節(jié)簽署了《合作框架協(xié)議》，預計該光刻機將于2021年3月底前進入北方集成電路現(xiàn)場。

現(xiàn)經(jīng)各方積極協(xié)商、運作，這臺光刻機設備于今日已進入北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司的場地，后續(xù)將進行安裝調(diào)試等相關(guān)工作。

上海新陽表示，采購的ASML干法光刻機設備順利交付，對加快193nm ArF干法光刻膠產(chǎn)品開發(fā)進度有積極影響，有利于進一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競爭力，加快落實公司發(fā)展戰(zhàn)略，提高公司抗風險能力和可持續(xù)發(fā)展能力。

不過，這臺光刻機尚須經(jīng)過裝機、調(diào)試等相關(guān)環(huán)節(jié)，如果出現(xiàn)工作疏漏或失誤，則存在造成光刻機投入使用過程較長，甚至無法投入使用的風險。

另外，光刻膠研發(fā)項目技術(shù)壁壘高、周期長，投入產(chǎn)業(yè)化并最終實現(xiàn)銷售利潤，仍需一定時間，而且價格昂貴，其折舊及后續(xù)維護費用預計對公司的經(jīng)營業(yè)績存在一定影響。

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