1月12日消息（顏翊）盡管臺(tái)積電的3nm制程技術(shù)（N3）工藝在性能和功率方面有著較大優(yōu)勢，但其高成本阻礙了廣泛采用。

根據(jù)華興資本的數(shù)據(jù)，N3能夠使用多達(dá)25層極紫外輻射(EUV)光刻流程，根據(jù)配置不同，每臺(tái)EUV光刻機(jī)的成本為1.5億至2億美元。為了降低成本，臺(tái)積電不得不對其N3工藝和后續(xù)工藝收取更高的生產(chǎn)費(fèi)用。

不過，據(jù)報(bào)道，臺(tái)積電正在考慮降低N3芯片的報(bào)價(jià)，以刺激其合作伙伴使用其N3級工藝技術(shù)。

據(jù)傳，臺(tái)積電每塊N3晶圓的收費(fèi)可能高達(dá)20,000美元，而N5晶圓價(jià)格為16,000美元。成本增加意味著AMD、博通、聯(lián)發(fā)科、英偉達(dá)和高通等公司的利潤降低，這也是為什么芯片開發(fā)商正在重新考慮他們?nèi)绾蝿?chuàng)造先進(jìn)的設(shè)計(jì)和使用先進(jìn)制程。

AMD公開宣布，計(jì)劃在2024年使用 N3制程生產(chǎn)部分基于Zen 5的設(shè)計(jì)，而Nvidia預(yù)計(jì)將在同一時(shí)間段內(nèi)推出下一代基于Blackwell架構(gòu)的圖形處理器(GPU) ，并采用 N3制程生產(chǎn)。由于成本高昂，N3級制程的采用預(yù)計(jì)僅限于某些產(chǎn)品，因此臺(tái)積電降低報(bào)價(jià)的舉措可能會(huì)促使芯片設(shè)計(jì)者重新考慮其采用策略。

不過，報(bào)道稱，臺(tái)積電的N3還存在良率低的問題，一些人估計(jì)良率在60%到80%之間，也有稱其良率甚至低于50%。由于只有蘋果公司使用了這種制造技術(shù)，關(guān)于早期N3芯片的良率的任何細(xì)節(jié)都應(yīng)該保持懷疑態(tài)度。

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