三星2nm工藝布局提速 泰勒工廠2026年導(dǎo)入設(shè)備

據(jù)供應(yīng)鏈消息，三星電子計劃于2026年在其美國泰勒工廠部署2nm制程設(shè)備。該工廠潔凈室建設(shè)因前期工程延誤，現(xiàn)已確定于2025年Q2重啟施工。

行業(yè)觀察指出，此次設(shè)備導(dǎo)入標(biāo)志著三星在先進(jìn)制程競賽中邁出關(guān)鍵一步。泰勒工廠作為三星海外最大半導(dǎo)體生產(chǎn)基地，建成后將承擔(dān)2nm工藝研發(fā)與量產(chǎn)任務(wù)，直接對標(biāo)臺積電同期技術(shù)節(jié)點。

市場分析師認(rèn)為，若三星能按計劃完成產(chǎn)線建設(shè)，將顯著提升其在全球晶圓代工市場的競爭力。目前臺積電仍保持2nm工藝量產(chǎn)進(jìn)度領(lǐng)先，預(yù)計2025年實現(xiàn)投產(chǎn)。

（本文基于公開信息整理，具體實施細(xì)節(jié)以企業(yè)官方披露為準(zhǔn)）

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